Electron-Beam, X-Ray, EUV, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing V

Podrobná bibliografie
Další autoři: Warlaumont, John
Médium: Elektronický zdroj E-kniha
Jazyk:angličtina
Vydáno: SPIE Digital Library, 5/19/95
Témata:
On-line přístup:Full text available on Research4Life (SPIE Digital Library)
Popis
Popis jednotky:<strong>On-Campus Access Only (IP based access)</strong>
Fyzický popis:1 online resource
Médium:Mode of access: Internet
ISBN:9780819417855
Přístup:Electronic access restricted to authorized AUW faculty, staff and students