Electron-Beam, X-Ray, EUV, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing V

Бібліографічні деталі
Інші автори: Warlaumont, John
Формат: Електронний ресурс eКнига
Мова:Англійська
Опубліковано: SPIE Digital Library, 5/19/95
Предмети:
Онлайн доступ:Full text available on Research4Life (SPIE Digital Library)
Опис
Опис примірника:<strong>On-Campus Access Only (IP based access)</strong>
Фізичний опис:1 online resource
Формат:Mode of access: Internet
ISBN:9780819417855
Доступ:Electronic access restricted to authorized AUW faculty, staff and students