Optical and EUV Lithography: A Modeling Perspective

Номзүйн дэлгэрэнгүй
Үндсэн зохиолч: Erdmann, Andreas
Формат: Цахим Цахим ном
Хэл сонгох:англи
Хэвлэсэн: SPIE Digital Library, 1/1/21
Нөхцлүүд:
Онлайн хандалт:Full text available on Research4Life (SPIE Digital Library)
Тодорхойлолт
Зүйлийн тодорхойлолт:<strong>On-Campus Access Only (IP based access)</strong>
Биет тодорхойлолт:1 online resource
Формат:Mode of access: Internet
ISBN:9781510639010
9781510639027
Хандалт:Electronic access restricted to authorized AUW faculty, staff and students