Ando, A. Photomask Japan 2021: XXVII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. SPIE Digital Library.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Ando, Akihiko. Photomask Japan 2021: XXVII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. SPIE Digital Library.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الإصدار التاسع)Ando, Akihiko. Photomask Japan 2021: XXVII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. SPIE Digital Library.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.