Ando, A. Photomask Japan 2019: XXVI Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. SPIE Digital Library.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Ando, Akihiko. Photomask Japan 2019: XXVI Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. SPIE Digital Library.
Стиль цитування MLA (9-ме видання)Ando, Akihiko. Photomask Japan 2019: XXVI Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. SPIE Digital Library.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.