Takehisa, K. Photomask Japan 2017: XXIV Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. SPIE Digital Library.
Цитирование в стиле Чикаго (17-е изд.)Takehisa, Kiwamu. Photomask Japan 2017: XXIV Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. SPIE Digital Library.
Цитирование MLA (9-е изд.)Takehisa, Kiwamu. Photomask Japan 2017: XXIV Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. SPIE Digital Library.
Предупреждение: эти цитированмия не могут быть всегда правильны на 100%.