Electron-Beam, X-Ray and Ion-Beam Techniques for Submicron Lithographies II

Opis bibliograficzny
Kolejni autorzy: Blais, Phillip
Format: Elektroniczne E-book
Język:angielski
Wydane: SPIE Digital Library, 11/7/83
Hasła przedmiotowe:
Dostęp online:Full text available on Research4Life (SPIE Digital Library)
Opis
Deskrypcja:<strong>On-Campus Access Only (IP based access)</strong>
Opis fizyczny:1 online resource
Format:Mode of access: Internet
ISBN:9780892524280
Ograniczenie dostępu:Electronic access restricted to authorized AUW faculty, staff and students