Photomask Japan 2016: XXIII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology
| Άλλοι συγγραφείς: | |
|---|---|
| Μορφή: | Ηλεκτρονική πηγή Ηλ. βιβλίο |
| Γλώσσα: | Αγγλικά |
| Έκδοση: |
SPIE Digital Library,
9/19/16
|
| Θέματα: | |
| Διαθέσιμο Online: | Full text available on Research4Life (SPIE Digital Library) |
| Περιγραφή τεκμηρίου: | <strong>On-Campus Access Only (IP based access)</strong> |
|---|---|
| Φυσική περιγραφή: | 1 online resource |
| Μορφή: | Mode of access: Internet |
| ISBN: | 9781510603721 9781510603738 |
| Πρόσβαση: | Electronic access restricted to authorized AUW faculty, staff and students |