Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IV

Detalhes bibliográficos
Outros Autores: Naulleau, Patrick
Formato: Recurso Electrónico livro electrónico
Idioma:inglês
Publicado em: SPIE Digital Library, 4/26/13
Assuntos:
Acesso em linha:Full text available on Research4Life (SPIE Digital Library)
Descrição
Descrição do item:<strong>On-Campus Access Only (IP based access)</strong>
Descrição Física:1 online resource
Formato:Mode of access: Internet
ISBN:9780819494610
Acesso:Electronic access restricted to authorized AUW faculty, staff and students