Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XVIII

Bibliografische gegevens
Andere auteurs: Konishi, Toshio
Formaat: Elektronisch E-boek
Taal:Engels
Gepubliceerd in: SPIE Digital Library, 4/22/11
Onderwerpen:
Online toegang:Full text available on Research4Life (SPIE Digital Library)
Omschrijving
Beschrijving item:<strong>On-Campus Access Only (IP based access)</strong>
Fysieke beschrijving:1 online resource
Formaat:Mode of access: Internet
ISBN:9780819486738
Toegang:Electronic access restricted to authorized AUW faculty, staff and students